不同材料對X射線的透過率不同。其中鈹?shù)耐高^率最好，當(dāng)X射線的能量達(dá)到3Kev時就能有50%以上的射線透過。所以X射線源都采用鈹窗。但值得注意的是，有些應(yīng)用中只需要高能部分X射線，此時可以自行添加鋁層等過濾層，過濾低能X射線。

  X射線源的焦點(diǎn)：電子透鏡將電子束聚焦到靶上的一個點(diǎn)--X射線焦點(diǎn)。在其他條件一致的情況下，X射線焦點(diǎn)越小，成像質(zhì)量越好。所以這個電子透鏡設(shè)計的優(yōu)劣（直接）決定MFX的性能。開放管一般使用線圈通過磁場對電子軌道進(jìn)行控制，能使焦點(diǎn)更小。封閉管受到FOD的限制，一般使用電場對電子軌道進(jìn)行控制，焦點(diǎn)偏大。

  電子在沖撞靶面時X射線變換的效率很低，99%以上會變成熱能；X射線源把大量電子聚焦到靶上的極小一點(diǎn)（X射線焦點(diǎn)）上，過高的功率或者隨著工作時間延長，靶面會被逐漸融化，使得：1、穩(wěn)定性漸漸變差；2、產(chǎn)生的X線劑量漸漸減少，X線相機(jī)上的圖像變昏暗；3、焦點(diǎn)尺寸漸漸變大，分辨率變差。

  X射線源所發(fā)出的最大X射線光子能量等于入射電子在X射線管加速電場中所獲得的能量--電子電量乘以加速電場（即管電壓）。所以連續(xù)X射線的短波極限只與管電壓有關(guān)，而與其他因素?zé)o關(guān)。管電壓越高，所產(chǎn)生的X射線的能量越高，波長越短，穿透物質(zhì)的能力也越強(qiáng)。

  管電流越大，單位時間轟擊到靶上的高速電子就越多，X射線源發(fā)射出的X射線就越多，相當(dāng)于一定面積的X射線的劑量增加（或者類比于電燈變亮），對應(yīng)圖像的亮度增加。

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